INDUSTRY|electronics and electrical engineering
- spriúchadh Reference Faomhadh an téarma seo mar chuid de Thionscadal Lex
- ga
- Sputter-Verfahren | Zerstäubung durch Ionenbeschuss | Sputtern | Sputterverfahren | Zerstäubung | Kathodenzerstäubung
- de
- Definition Prozess, bei dem Elektrodenmaterial durch das Bombardement mit positiven Ionen abgetragen oder "zerstäubt" (engl. sputtern) wird, weshalb die Methode auch als "Kathodenzerstäubung" bezeichnet wird. Reference Volkmar Weiß: In situ-Untersuchung des Wachstums von reaktiv gesputterten MoSx- und WSx-Schichten mit Hilfe der energiedispersiven Röntgenbeugung (EDXRD). Freie Universität Berlin: 2002, S.19, http://www.diss.fu-berlin.de/diss/servlets/MCRFileNodeServlet/FUDISS_derivate_000000000967/06_kap3.pdf;jsessionid=49C66C407CE93223745F72A2007D12E3?hosts= (16.1.2017)
- Comment Zählt zur Gruppe der PVD-Verfahren. Es ermöglicht die Abscheidung von Schichten definierter Zusammensetzung (z.B. Al mit Zusätzen Si von Cu und ), wobei sich das Verfahren durch eine sehr gute Reproduzierbarkeit auszeichnet. Martin Stiftinger,Sputter-Verfahren, Institut für Mikroelektronik an der TU Wien, 1994, http://www.iue.tuwien.ac.at/phd/strasser/node56.html (16.1.2017)
- sputtering
- en
- Definition process for forming films in which ion bombardment or other application of energy is used to free particles from a solid source that become deposited on a nearby surface Reference 'sputtering'. IEV 521-03-17, Electropedia, http://www.electropedia.org/iev/iev.nsf/display?openform&ievref=521-03-17 [15.9.2014]
- Comment it is commonly utilized for thin-film deposition, etching and analytical techniquesWikipedia > Sputtering, http://en.wikipedia.org/wiki/Sputtering [15.9.2014]