PRODUCTION, TECHNOLOGY AND RESEARCH|technology and technical regulations|technology · INDUSTRY|chemistry
- deascadh fisiceach gaile Reference Faomhadh an téarma seo mar chuid de Thionscadal Lex
- ga
- Physikalische Gasphasenabscheidung | Physikalisches Abscheiden aus der Gasphase | Physikalische Dampfphasenabscheidung | PVD
- de
- Definition Gruppe von vakuumbasierten Beschichtungsverfahren bzw. Dünnschichttechnologien, wobei mithilfe physikalischer Verfahren das Ausgangsmaterial in die Gasphase überführt und anschließend zum zu beschichtenden Substrat geführt wird, wo es kondensiert und eine Zielschicht bildet Reference "Wikimedia Foundation Inc.: Wikipedia - Die freie Enzyklopädie, ""Physikalische Gasphasenabscheidung"", https://de.wikipedia.org/wiki/Physikalische_Gasphasenabscheidung (12.1.2017)"
- Comment Beispiele: Sputtern, Aufdampfen, Ionenplattieren, Molekularstrahlepitaxie Heinz M. Hiersig (Hrsg.): VDI-Lexikon Maschinenbau. Springer Verlag: Berlin, Heidelberg, 1995. S.854
- physical vapour deposition | physical vapor deposition | PVD
- en
- Definition one of several vacuum deposition methods used to deposit thin films by the condensation of a vaporized form of the desired film material onto various workpiece surfaces (e.g., onto semiconductor wafers) Reference "Wikipedia > Physical vapor deposition. http://en.wikipedia.org/wiki/Physical_vapor_deposition [1.12.2014]"