INDUSTRY|iron, steel and other metal industries · INDUSTRY|electronics and electrical engineering
- deascadh gaile ceimicí plasmaileasaithe Reference Faomhadh an téarma seo mar chuid de Thionscadal Lex
- ga
- Plasmaunterstützte Gasphasenabscheidung | PECVD | Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung | Plasmaunterstütztes CVD-Verfahren | Plasmaunterstützte CVD-Abscheidung | PECVD-Verfahren | Plasmaangeregtes chemisches Gasphasen-Abscheideverfahren
- de
- Definition Prozess, der Plasmen verwendet, um eine chemische Reaktion aufrecht zu erhalten, die auf einem Substrat zur Bildung einer dünnen Schicht führt Reference "Angelehnt an: Maximilian Paul Baier: Plasmaunterstützte Gasphasenabscheidung (PE-CVD) von Multifunktionsschichten aus dem Precursorensystem Hexamethyldisiloxan / Sauerstoff. Universität Stuttgart: 2016, S.23, http://elib.uni-stuttgart.de/bitstream/11682/8789/1/Diss_Baier_2016_03_03.pdf (13.1.2017)"
- Comment Es handelt sich um eine große Gruppe von Prozessen, die sich in ihren Parametern, ihrer räumlichen Ausdehnung und ihren Resultaten erheblich unterscheiden. Dieser Prozess wird beispielsweise bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen (Transistoren, Dioden, integrierte Schaltungen) oder wellenoptischen Komponenten (LASER, LEDs, Bragg-Spiegel) verwendet
- plasma-enhanced chemical vapour deposition | plasma enhanced chemical vapor deposition | plasma-enhanced CVD | PECVD
- en
- Definition process used to deposit thin films from a gas state (vapor) to a solid state on a substrate Reference "Wikipedia > Plasma-enhanced chemical vapor deposition, http://en.wikipedia.org/wiki/Plasma-enhanced_chemical_vapor_deposition [12.9.2014]"
- Comment "See also: 'chemical vapour deposition', IATE:1756246"