Gaois

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1 result

  1. PRODUCTION, TECHNOLOGY AND RESEARCH|technology and technical regulations|technology · INDUSTRY|chemistry

    #634089

    IATE #1679865
    deascadh fisiceach gaile Reference Faomhadh an téarma seo mar chuid de Thionscadal Lex
    ga
    Physikalische Gasphasenabscheidung | Physikalisches Abscheiden aus der Gasphase | Physikalische Dampfphasenabscheidung | PVD
    de
    Definition Gruppe von vakuumbasierten Beschichtungsverfahren bzw. Dünnschichttechnologien, wobei mithilfe physikalischer Verfahren das Ausgangsmaterial in die Gasphase überführt und anschließend zum zu beschichtenden Substrat geführt wird, wo es kondensiert und eine Zielschicht bildet Reference "Wikimedia Foundation Inc.: Wikipedia - Die freie Enzyklopädie, ""Physikalische Gasphasenabscheidung"", https://de.wikipedia.org/wiki/Physikalische_Gasphasenabscheidung (12.1.2017)"
    Comment Beispiele: Sputtern, Aufdampfen, Ionenplattieren, Molekularstrahlepitaxie Heinz M. Hiersig (Hrsg.): VDI-Lexikon Maschinenbau. Springer Verlag: Berlin, Heidelberg, 1995. S.854
    physical vapour deposition | physical vapor deposition | PVD
    en
    Definition one of several vacuum deposition methods used to deposit thin films by the condensation of a vaporized form of the desired film material onto various workpiece surfaces (e.g., onto semiconductor wafers) Reference "Wikipedia > Physical vapor deposition. http://en.wikipedia.org/wiki/Physical_vapor_deposition [1.12.2014]"