Gaois

Treo cuardaigh

Modh cuardaigh

Scag na torthaí

Bailiúcháin

4 thoradh in 2 dhoiciméad

  1. #3082845

    Gaireas le haghaidh deascadh fisiceach trí spriúchadh ar shliseoga leathsheoltóra

    Apparatus for physical deposition by sputtering on semiconductor wafers

    22024A0022

  2. #3082891

    Páirteanna de ghaireas le haghaidh deascadh fisiceach trí spriúchadh ar shliseoga leathsheoltóra, nó le haghaidh táirgeadh leathsheoltóra

    Parts of apparatus for physical deposition by sputtering on semiconductor wafers, or for semiconductor production

    22024A0022

  3. #3117518

    (Nóta: Is gnáthmhodhnuithe ar an bpróiseas iad spriúchadh trióide, maighnéatróin nó radaimhinicíochta chun greamaitheacht an bhrataithe agus an ráta deasctha a mhéadú.).

    (Note: Triode, magnetron or radio frequency sputtering to increase adhesion of coating and rate of deposition are ordinary modifications of the process.).

    Rialachán (AE) 2023/1214 ón gComhairle an 23 Meitheamh 2023 lena leasaítear Rialachán (AE) Uimh. 833/2014 a bhaineann le bearta sriantacha i bhfianaise ghníomhaíochtaí na Rúise i ndíchobhsú staid na hÚcráine

  4. #3117516

    Chun críoch X.B.I.001.b.1, is éard atá sa ‘spriúchadh’ próiseas brataithe forleagain ina ndéantar iain a bhfuil lucht deimhneach iontu a luathú le réimse leictreach, i dtreo dromchla sprice (ábhar brataithe).

    For the purpose of X.B.I.001.b.1, “sputtering” is an overlay coating process wherein positively charged ions are accelerated by an electric field towards the surface of a target (coating material).

    Rialachán (AE) 2023/1214 ón gComhairle an 23 Meitheamh 2023 lena leasaítear Rialachán (AE) Uimh. 833/2014 a bhaineann le bearta sriantacha i bhfianaise ghníomhaíochtaí na Rúise i ndíchobhsú staid na hÚcráine