PRODUCTION, TECHNOLOGY AND RESEARCH|technology and technical regulations|technology · INDUSTRY|chemistry
- deascadh fisiceach gaile Tagairt Faomhadh an téarma seo mar chuid de Thionscadal Lex
- ga
- Physikalische Gasphasenabscheidung | Physikalisches Abscheiden aus der Gasphase | Physikalische Dampfphasenabscheidung | PVD
- de
- Sainmhíniú Gruppe von vakuumbasierten Beschichtungsverfahren bzw. Dünnschichttechnologien, wobei mithilfe physikalischer Verfahren das Ausgangsmaterial in die Gasphase überführt und anschließend zum zu beschichtenden Substrat geführt wird, wo es kondensiert und eine Zielschicht bildet Tagairt "Wikimedia Foundation Inc.: Wikipedia - Die freie Enzyklopädie, ""Physikalische Gasphasenabscheidung"", https://de.wikipedia.org/wiki/Physikalische_Gasphasenabscheidung (12.1.2017)"
- Nóta Beispiele: Sputtern, Aufdampfen, Ionenplattieren, Molekularstrahlepitaxie Heinz M. Hiersig (Hrsg.): VDI-Lexikon Maschinenbau. Springer Verlag: Berlin, Heidelberg, 1995. S.854
- physical vapour deposition | physical vapor deposition | PVD
- en
- Sainmhíniú one of several vacuum deposition methods used to deposit thin films by the condensation of a vaporized form of the desired film material onto various workpiece surfaces (e.g., onto semiconductor wafers) Tagairt "Wikipedia > Physical vapor deposition. http://en.wikipedia.org/wiki/Physical_vapor_deposition [1.12.2014]"